PVD真空電漿鍍膜設備

PVD真空電漿鍍膜設備

產品特色

  • 機台尺寸 : 1900 (W) x 4000 (D) x 2100 (H) mm
  • 有效鍍膜空間 : Ø480 x H550 mm
  • 夾層式直接水冷不鏽鋼腔體
  • 搭載超高真空渦輪幫浦
  • 4~8組PVD鍍膜靶源
  • 8軸之3層公自轉機構可大幅提升系統批次產量與均勻性
  • 整套置具臺車進出方便Loading/Unloading 生產
  • 全自動化鍍膜生產
  • 遠端網路診斷及程式除錯
  • 鍍膜總類:TiN、CrN、AlTiN、 TiAlN、TiSiN…
  • 銑削、車削、鑽孔、攻牙之刀工具
  • 成型、沖壓之模具