PVD真空等离子镀膜设备

PVD真空等离子镀膜设备

产品特色

  • 机台尺寸 : 1900 (W) x 4000 (D) x 2100 (H) mm
  • 有效镀膜空间 : O480 x H550 mm
  • 夹层式直接水冷不锈钢腔体
  • 搭载超高真空涡轮帮浦
  • 4~8组PVD镀膜靶源
  • 8轴之3层公自转机构可大幅提升系统批次产量与均匀性
  • 整套置具台车进出方便Loading/Unloading 生产
  • 全自动化镀膜生产
  • 远端网路诊断及程式除错
  • 镀膜总类:TiN、CrN、AlTiN、 TiAlN、TiSiN…
  • 铣削、车削、钻孔、攻牙之刀工具
  • 成型、冲压之模具