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    馗鼎產業報導
    常壓電漿清潔Arc模組SAP003 快速去除局部表面與3D結構的髒污
    SAP003 module是利用尖端放電概念藉由高流速氣體流經圓管將電弧噴出以產生穩定電漿
    專業技術
    TECHNOLOGY
馗鼎奈米產品總集
低壓電漿設備
PLASMA PRO
    關於馗鼎
    ABOUT CREATING

馗鼎奈米科技股份有限公司 之技術團隊在電漿領域的研發已有十餘年的歷史,在國內對於電漿技術的開發可說位於領導的地位,目前已是國內最大常壓電漿設備生產製造商,其產品穩定性及可靠度深獲國內面板大廠肯定,已獲國內面板大廠大量使用,可有效提升面板生產之良率及信賴度。

 

本公司具有全世界首屈一指的電漿與鍍膜專業技術,專長於IC、光電與通訊製程技術與設備的研發。其客戶領域鎖定在光電(液晶顯示器,有機發光二極體)、半導體(如IC,電子封裝)、印刷電路板、精密機械(模具,工具鍍膜)、光纖通訊、微機電等產業,提供未來快速成長的電子資訊產業關鍵技術。 本公司是定位於研究開發與技術創新的公司,開發建立台灣之光電、光學、精密機械、IC、封裝、資訊的關鍵技術是本公司最主要的目標與利基。為達技術之領先及永續經營之目標,我們將不斷的研發以提升產品之性能。為提升國內產品研發之能力及競爭性,我們也積極與國內學術界研發機構合作,將具應用性之研發成果商品化。

 

 

我們的團隊中擁有多位電漿博士、碩士進行研發工作,建立自主的電漿和鍍膜技術能力,另有多位自動控制、維修工程及技術員,集合專業領域精英各司其職並與顧問智囊團形成陣容堅強之公司團隊,提供國內外廠商更專業、更迅速的服務。

 

    產品訊息
    PRODUCTS
  • 奈米氟素處理
  • 奈米氟素處理
  • 電漿空氣淨化器
  • 吸頂式-電漿殺菌空氣淨化器
  • 電漿空氣淨化器
  • 落地式-電漿殺菌空氣淨化器
  • 智慧電暈極化設備
  • 智慧電暈極化設備POL-57A
  • 接觸角量測儀
  • 自動接觸角量測儀 CAM121-Pro(X)
  • 接觸角量測儀
  • 俯視接觸角量測儀 CAM 121-TOP
  • 雙端矽氫基矽氧寡聚物(DDSQ)
  • 四矽氫氧基矽氧烷寡聚物OD-530
  • 雙端矽氫基矽氧寡聚物(DDSQ)
  • 鈉氧基矽氧烷寡聚物OD-230
  • 旋轉式常壓電漿
  • 旋轉式常壓電漿 SAP013RZ/SAP013RT/SAP013XR
  • 產品比較表
  • 常壓電漿比較表
  • ARC電漿組
  • 常壓電漿清洗設備SAP002
  • 點狀式常壓電漿
  • 點狀式常壓電漿SAP013
  • 點狀式常壓電漿
  • 點狀式常壓電漿SAP013T / SAP013X
  • 寛幅式常壓電漿 (N2)
  • 常壓電漿清洗設備SAP006
  • 點狀式常壓電漿
  • 常壓電漿清洗設備SAP009SA
  • 寛幅式常壓電漿(Ar)
  • 氬氣寬幅式大氣電漿SAP006-RF30ST
  • 寛幅式常壓電漿(Ar)
  • 氬氣寬幅式大氣電漿SAP006-RF30ST
  • 抗汙與指紋膜塗佈設備
  • 抗汙與指紋膜塗佈設備
  • 抗眩膜塗佈設備
  • 抗眩膜塗佈設備
  • 指紋辨識晶片有色精密塗佈機
  • 指紋辨識晶片有色精密塗佈機
  • 桌上型光學膜塗佈設備
  • 桌上型光學膜塗佈設備
  • 清潔設備
  • 低壓電漿清潔設備PC03/PC04
  • 清潔設備
  • 低壓電漿清潔設備 DPC06
  • 去光阻機
  • 電漿去光阻機PA01/PA03B
  • 去膠渣機
  • 電漿去膠渣機 PD06
  • 蝕刻機
  • 電漿蝕刻機PI01
  • 捲對捲(R2R)
  • 真空R2R電漿設備
  • PVD系統
  • PVD PVN500-C
  • PVD系統
  • PVD PVN500-R
  • PVD系統
  • PVD PVN650-R
  • PVD系統
  • 高真空濺鍍系統CF-SP01 (X、Z)
  • PVD系統
  • FCVA100
  • PVD系統
  • BM1250
  • PECVD系統
  • 電漿輔助化學氣相沉積系統
  • PECVD系統
  • 類鑽碳鍍膜系統
  • PVD & PECVD Complex系統
  • Hybrid 500 - 4A2S
  • PVD & PECVD Complex系統
  • Hybrid 500 - 4S
  • 客製設計服務
  • 電漿系統ODM服務
  • PVD系統
  • 氮化鈦鍍膜(TiN)
  • PVD系統
  • 氮化鉻鍍膜(AlCrN)
  • 抗污與抗指紋膜
  • 抗污/抗指紋膜代工
  • PVD系統
  • 高鋁鍍膜(AlTiN)
  • 鋁加工系列
  • 彩鑽系列
  • PVD系統
  • 中鋁鍍膜(TiAlN)
  • 鋁加工系列
  • DLC系列
  • PVD系統
  • 高鋁鈦鉻鍍膜(AlTiCrN)
  • 不鏽鋼精修
  • 彩鑽系列
  • PVD系統
  • TiX-H鍍膜
  • 高硬度加工系列
  • 高硬度&高速加工系列
  • PVD系統
  • 奈米多層複合鍍膜GS塗層
  • 高硬度加工系列
  • 高硬度&超高速加工系列
  • PVD系統
  • ta-C鍍膜
  • PECVD系統
  • 類鑽碳鍍膜(DLC)
  • 鎢鋼銑刀
  • 平刀系列
  • PECVD系統
  • 抗靜電消散-類鑽碳膜(ESD-DLC)
  • 鎢鋼銑刀
  • 球刀系列
  • PECVD系統
  • 耐高溫類鑽碳薄膜(DLC)
  • 鎢鋼銑刀
  • 圓鼻刀系列
  • PECVD系統
  • Rainbow Diamond鍍膜
  • PVD & PECVD Complex系統
  • Me/DLC鍍膜
  • 鎢鋼銑刀
  • 極速銑刀系列
  • PVD & PECVD Complex系統
  • TA&TS鍍膜
  • 脈衝直流電源供應器
  • 脈衝直流電漿電源供應器 PDPS001
  • 直流電源供應器
  • 直流電漿電源系統 DCPS系列
  • CVD系統
  • Diamond鍍膜(Hot filament CVD)
  • 中頻電源供應器
  • 中頻電漿電源系統 MFPS系列
  • CVD系統
  • TiN, TiC, TiCN鍍膜(Thermal CVD)
  • 接觸角量測儀
  • 接觸角(水滴角)測量儀CAM121
  • 接觸角量測儀
  • 接觸角(水滴角)量測儀CAM211
  • 微氧分析儀
  • 微氧分析儀COA011
  • 流量控制器
  • 流量控制器MFC001
  • 真空蝶閥
  • 真空蝶閥BPCV001
  • 電漿光譜分析儀
  • 電漿光譜分析儀 (OES)
  • 真空電性量測系統
  • 多功能型真空電性量測系統MVEM001
  • 靜電集塵器
  • 靜電集塵器ESP-004-2000CFM
  • 靜電集塵器
  • 靜電集塵器ESP-004-4000CFM
  • 電漿空氣淨化技術
  • 電漿空氣淨化技術
  • 空氣清淨機
  • 空氣清淨機
  • 3DP 模型用樹脂
  • 3DP 模型用樹脂
  • 3DP 脫蠟鑄造用樹脂
  • 3DP 脫蠟鑄造用樹脂
  • 二氧化矽納米粒子
  • 二氧化矽納米粒子 OL-310
  • 二氧化矽納米粒子
  • 二氧化矽納米粒子 OL-620
  • SiO2納米粒子
  • SiO2納米粒子
  • 達因試劑
  • 達因試劑
  • 二氧化鋯分散液
  • 二氧化鋯分散液
  • 納米粉與納米顆粒分散體
  • 水性納米TiO2分散體NL3-X1
  • 納米粉與納米顆粒分散體
  • 溶劑型納米TiO2分散體TMA-A1
  • 納米粉與納米顆粒分散體
  • 水性納米SiO2分散體
  • 納米粉與納米顆粒分散體
  • 溶劑型納米SiO2分散體
  • 環境噴霧
  • 環境噴霧
  • 中孔洞二氧化矽奈米粒子(分散液)
  • 中孔洞二氧化矽奈米粒子(分散液)
  • 雙端矽氫基矽氧寡聚物(DDSQ)
  • 雙端矽氫基矽氧烷寡聚物(DDSQ)OD-100