UA-20935187-3
真空镀膜系统

等离子辅助化学气相沉积系统

等离子辅助化学气相沉积系统
等离子辅助化学气相沉积系统
产品特点
  • 大面积均匀性
  • 高镀膜速率
  • 低温真空镀膜
  • 可通入多组气体
  • 易操作及易维护
  • 可以客户做修改
  • 可搭配制等离子光谱分析仪做制程等离子监控及控制
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