各类基材表面清洁与改性

馗鼎低压反应离子刻蚀设备，结合专利电极与创新气体流场设计，实现高效刻蚀与优异制程均匀性，广泛应用于半导体、封装与光电产业。

．各式材料之表面清洁、活化或改质 ．增加黏着或附着性 ．提升组件封装、黏着或印刷之可靠度 ．操作简单，可调整等离子功率、处理距离、清洁速度及气体种类等 ．可清洁物品材质：玻璃、塑料、金属、陶瓷、橡胶等

在大气环境中，产生辉光放电等离子体，快速清洁有机污染物， 达到元件表面清洁及改善的功能，有效提升元件封装、黏着、印刷之可靠度

独家常压等离子镀膜技术于金属或其它基材喷镀上功能性膜层，提升产品性能与附加价值。