PVD PVN650-R

高效稳定・精密镀膜・智能制程
可镀材料： TiN、CrN、ZrN、TiX-H、TiAlN、AlTiN、AlCrN、AlTiCrN 等多种功能性薄膜

• 机台尺寸：W1900 × D4000 × H2100 mm
• 有效镀膜空间：ø480 × H550 mm
• 镀膜技术：可更换式阴极电弧与磁控溅射系统
• 靶源配置：矩形靶源（2~4组）或6英寸圆形靶源模式（4~8组）
• 腔体结构：八边形不锈钢腔体，夹层水冷设计
• 温控系统：4组加热器，均匀升温至450℃
• 真空系统：配备超高真空涡轮泵
• 旋转机构：8轴3层公自转设计，提升产能与膜层均匀性
• 上下料效率：配备移动台车，操作便捷
• 智能制程：全自动控制系统，支持远程监控与程序诊断调试

• 各类刀具加工：铣削、车削、钻孔、攻牙
• 精密模具制造：成型模、冲压模等耐磨损应用