PVD PVN650-R

高效穩定・精密鍍膜・智慧製程
可鍍材料：TiN、CrN、ZrN、TiX-H、TiAlN、AlTiN、AlCrN、AlTiCrN 等多種功能性薄膜

• 機台尺寸：W1900 × D4000 × H2100 mm
• 有效鍍膜空間：ø480 × H550 mm
• 鍍膜技術：可更換式陰極電弧與磁控濺鍍系統
• 靶源配置：矩形靶源(2~4組)或6吋圓形靶源模式(4~8組)
• 腔體結構：八邊形不鏽鋼腔體，夾層水冷設計
• 溫控系統：4 組 Heater，均勻升溫至 450℃
• 真空系統：搭載超高真空渦輪幫浦
• 旋轉機構：8 軸 3 層公自轉設計，提升產能與膜層均勻性
• 上下料效率：配備移動台車，操作便利
• 智慧製程：全自動控制系統，支援遠端監控與程式診斷除錯

• 各式刀具加工：銑削、車削、鑽孔、攻牙
• 精密模具製造：成型模、沖壓模等耐磨耗應用