CVD系统

钻石镀膜（Diamond Coating / Hot Filament CVD）具备高硬度、高耐磨性、低摩擦系数、高热导率与良好电绝缘性，可广泛应用于刀具加工、模具、光电器件、半导体散热与高功率电子器件热管理等领域。随着 AI 芯片、HPC 高性能计算、SiC／GaN 第三代半导体与数据中心应用快速发展，器件功耗与热密度持续提升。钻石膜因具备优异导热能力与低热膨胀特性，可协助提升热传导效率、降低局部热点，并改善高功率器件在长时间运行下的稳定性与可靠性。馗鼎纳米科技可依不同基材与应用需求，提供 CVD 钻石膜镀膜与膜厚调控工艺评估，协助客户开发耐磨保护、半导体散热与先进材料表面处理应用。

近期发展起来的薄膜制备方法。采高温热分解前驱气体，通过调节前驱体组分对比和温度，而获得大面积高质量沉积膜。系利用气态物质在固体表面进行反应生成固态沉积物的过程，是一种在高温下利用热能进行热分解和热化合的沉积技术。