CVD系統

鑽石鍍膜（Diamond Coating / Hot Filament CVD）具備高硬度、高耐磨性、低摩擦係數、高熱導率與良好電絕緣性，可廣泛應用於刀具加工、模具、光電元件、半導體散熱與高功率電子元件熱管理等領域。隨著 AI 晶片、HPC 高效能運算、SiC／GaN 第三代半導體與資料中心應用快速發展，元件功耗與熱密度持續提升，鑽石膜因具備優異導熱能力與低熱膨脹特性，可協助提升熱傳導效率、降低局部熱點，並改善高功率元件在長時間運作下的穩定性與可靠度。馗鼎奈米科技可依不同基材與應用需求，提供 CVD 鑽石膜鍍膜與膜厚調控製程評估，協助客戶開發耐磨保護、半導體散熱與先進材料表面處理應用。

近期發展起來的薄膜製備方法。採高溫熱分解前驅氣體，通過調節前驅體組分對比和溫度，而獲得大面積高質量沉積膜。係利用氣態物質在固體表面進行反應生成固態沉積物的過程，是一種在高溫下利用熱能進行熱分解和熱化合的沉積技術。