各類基材表面清潔與改質

馗鼎低壓反應離子蝕刻設備，融合專利電極技術與創新氣體流場配置，實現高蝕刻速率與製程均勻性。支援精細乾式蝕刻（Etching）與灰化（Ashing）等製程，廣泛應用於半導體、封裝與光電等精密領域。

各式基材在印刷或黏著前之表面活化、改質、接枝、粗糙化或清潔等

在大氣的環境下，快速的清除有機污染物 達到元件表面清潔及改善的功能，有效提升元件封裝、黏著、印刷之可靠度

在大氣環境中，產生輝光放電等離子體，快速清潔有機汙染物， 達到元件表面清潔及改善的功能，有效提升元件封裝、黏著、印刷之可靠度