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馗鼎奈米科技以電漿創新引領封裝製程新革命 強攻FOPLP與TGV異質整合市場

馗鼎奈米科技以電漿創新引領封裝製程新革命 強攻FOPLP與TGV異質整合市場
經濟日報
2025年09月10號
作者 經濟日報 張傑
 
 
在全球半導體持續朝向更高密度、更小尺寸與更強運算能力邁進的趨勢中,封裝製程早已不只是傳統組裝的末端工序,而是決定晶片效能的關鍵之一。位於台灣、深耕電漿製程設備多年的馗鼎奈米科技,正憑藉其獨家電漿技術與完整設備解決方案,在先進封裝、面板級封裝(FOPLP)與玻璃通孔(TGV)等新世代製程領域嶄露頭角,為台灣半導體產業注入創新動能。
 
 
深耕類鑽碳薄膜(Diamond-like Carbon, DLC)領域超過25年的馗鼎奈米科技,再度展現其厚實的技術底蘊與創新能量。今年於半導體展亮相的抗靜電複合薄膜技術,正是其突破傳統的代表作。透過PVD/PECVD多層堆疊工藝,馗鼎成功讓DLC不僅具備原本的低摩擦係數、耐磨耗與耐腐蝕特性,更額外實現電阻值可穩定維持在10^5至10^8Ω範圍的抗靜電功能。這項成果意味著零件在高溫200℃或低溫-50℃的嚴苛環境下,依然能保持穩定的電氣特性,讓製程安全與可靠度大幅提升。
 
 
「當前功率器件、AI晶片與高效能運算(HPC)晶片越來越講求系統級封裝與異質整合,傳統的製程方法早已難以應付微米以下的結構需求與可靠性挑戰。」馗鼎奈米科技技術團隊指出,電漿蝕刻與表面活化技術,在此時此刻正成為左右製程良率的關鍵核心。
 
 
馗鼎長期投入開發RIE(反應式離子蝕刻)、ICP/RIE(感應耦合電漿)、以及In-line清潔設備等高階機台,不僅涵蓋晶圓前段製程,也可靈活應用於後段封裝需求。特別在光阻去除與PI(聚亞醯胺)descum等環節,傳統濕式製程難以達成的高選擇性與低損傷處理,在馗鼎的電漿系統中,透過等離子體均勻分佈與智慧控制參數,已可實現快速清潔又保護材料表面的雙重優勢。
 
 
面對FOPLP(Fan-out Panel Level Packaging)與TGV(Through Glass Via)製程對於微細通孔與複雜結構的極高精度要求,馗鼎的電漿蝕刻技術不但能穩定控制深寬比與側壁垂直度,同時兼顧製程均勻性與良率提升,已成功導入多家先進封裝大廠,成為不可或缺的合作夥伴。
 
 
技術之外,馗鼎更致力於設備模組化與智慧化的升級,透過數據監控、異常預測與遠端調控系統,提升機台運作穩定性與生產彈性,並有效降低人力與耗材成本,為客戶創造長期競爭優勢。
 
 
「我們相信,未來的半導體不再只比晶片的快慢與小大,更是封裝工藝的戰場。從晶圓減薄、光阻清除到微結構蝕刻,每一步都要在毫釐之間精準掌控,電漿就是這場戰役的關鍵武器。」馗鼎奈米表示,公司正持續拓展與材料、封裝、測試等各領域的策略聯盟,也與研究機構合作導入AI智慧製程,為邁向次世代異質整合奠定關鍵基礎。
 
 
展望未來,馗鼎將持續以創新為驅動力,開發更多符合AI、高速運算、電動車與5G應用需求的製程解決方案,朝向完整的電漿應用生態系邁進。當全球晶片製造重心轉向「封裝即製程」的格局之際,台灣在地技術能量如馗鼎般的企業,正是穩住產業競爭力、走出國際的關鍵推手。
 
 
 
 
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