
鍍膜代工
Diamond 鑽石鍍膜|CVD 鑽石散熱膜與耐磨鍍膜技術






產品說明
鑽石薄膜具備優異的物理與化學特性,包括高硬度、高熱導率、高耐磨性、低摩擦係數、良好電絕緣性與化學穩定性,因此可廣泛應用於機械加工、半導體散熱、光電元件、高功率電子與特殊材料表面處理等領域。
隨著 AI、高效能運算(HPC)、電動車與第三代半導體快速發展,晶片與高功率元件的功耗與熱密度持續提升。當傳統金屬散熱材料或外部冷卻方式逐漸接近極限,如何將熱量從晶片核心、封裝介面或功率元件熱點快速導出,成為影響元件效能、穩定性與使用壽命的重要關鍵。
鑽石是目前已知熱導率最高的材料之一,熱導率可達 2000 W/(m·K) 以上,約為銅的 5 倍、鋁的 8 倍。相較於傳統金屬材料,鑽石散熱膜能協助快速帶走局部熱點,降低高功率元件在長時間運作下的熱累積問題。
此外,鑽石具備較低的熱膨脹係數,與矽、碳化矽(SiC)等半導體材料更為接近,可降低冷熱循環所造成的熱應力與介面可靠度風險。因此,CVD 鑽石膜不僅適合應用於耐磨鍍層,也具備作為半導體散熱材料與高功率元件熱管理材料的發展潛力。
散熱與半導體應用:
鑽石散熱膜可應用於 AI 晶片、GPU、高頻寬記憶體(HBM)、SiC/GaN 第三代半導體、高功率電子元件、光電元件與散熱載板等領域。
在高功率密度元件中,熱點若無法即時導出,可能造成元件降頻、效率下降或可靠度降低。透過 CVD 鑽石鍍膜技術,可依基材條件與散熱需求,評估於碳化矽、陶瓷、金屬或其他特殊基材表面進行鑽石膜沉積,以提升熱傳導與表面保護效果。
可應用範圍:
1. 半導體與高功率電子散熱
適用於 AI 晶片散熱、第三代半導體、SiC/GaN 功率元件、高功率模組、散熱載板與電子封裝熱管理。
2. 刀具與耐磨加工
適用於石墨、陶瓷、鋁、銅、碳纖、玻纖、PCB 電子電路板與非鐵金屬加工,可提升刀具壽命與加工穩定性。
3. 光電、醫療與精密元件
適用於高功率雷射、光學元件、醫療器材、精密模具與高可靠度表面保護應用。
應用實例:
馗鼎奈米科技可依不同基材、膜厚需求與應用情境,進行 CVD 鑽石膜製程評估。例如,可於碳化矽基材上鍍覆鑽石膜,並依需求調控膜厚,應用於半導體散熱、高功率元件熱管理或特殊表面保護。
若您正在評估 AI 晶片散熱、半導體散熱、SiC/GaN 功率元件、散熱載板或耐磨鍍膜應用,歡迎與馗鼎奈米科技聯繫,我們可協助進行初步技術討論與製程評估。
隨著 AI、高效能運算(HPC)、電動車與第三代半導體快速發展,晶片與高功率元件的功耗與熱密度持續提升。當傳統金屬散熱材料或外部冷卻方式逐漸接近極限,如何將熱量從晶片核心、封裝介面或功率元件熱點快速導出,成為影響元件效能、穩定性與使用壽命的重要關鍵。
鑽石是目前已知熱導率最高的材料之一,熱導率可達 2000 W/(m·K) 以上,約為銅的 5 倍、鋁的 8 倍。相較於傳統金屬材料,鑽石散熱膜能協助快速帶走局部熱點,降低高功率元件在長時間運作下的熱累積問題。
此外,鑽石具備較低的熱膨脹係數,與矽、碳化矽(SiC)等半導體材料更為接近,可降低冷熱循環所造成的熱應力與介面可靠度風險。因此,CVD 鑽石膜不僅適合應用於耐磨鍍層,也具備作為半導體散熱材料與高功率元件熱管理材料的發展潛力。
散熱與半導體應用:
鑽石散熱膜可應用於 AI 晶片、GPU、高頻寬記憶體(HBM)、SiC/GaN 第三代半導體、高功率電子元件、光電元件與散熱載板等領域。
在高功率密度元件中,熱點若無法即時導出,可能造成元件降頻、效率下降或可靠度降低。透過 CVD 鑽石鍍膜技術,可依基材條件與散熱需求,評估於碳化矽、陶瓷、金屬或其他特殊基材表面進行鑽石膜沉積,以提升熱傳導與表面保護效果。
可應用範圍:
1. 半導體與高功率電子散熱
適用於 AI 晶片散熱、第三代半導體、SiC/GaN 功率元件、高功率模組、散熱載板與電子封裝熱管理。
2. 刀具與耐磨加工
適用於石墨、陶瓷、鋁、銅、碳纖、玻纖、PCB 電子電路板與非鐵金屬加工,可提升刀具壽命與加工穩定性。
3. 光電、醫療與精密元件
適用於高功率雷射、光學元件、醫療器材、精密模具與高可靠度表面保護應用。
應用實例:
馗鼎奈米科技可依不同基材、膜厚需求與應用情境,進行 CVD 鑽石膜製程評估。例如,可於碳化矽基材上鍍覆鑽石膜,並依需求調控膜厚,應用於半導體散熱、高功率元件熱管理或特殊表面保護。
若您正在評估 AI 晶片散熱、半導體散熱、SiC/GaN 功率元件、散熱載板或耐磨鍍膜應用,歡迎與馗鼎奈米科技聯繫,我們可協助進行初步技術討論與製程評估。
產品特點
- 高熱導率,可協助提升晶片、功率元件與散熱載板的熱傳導效率
- 高硬度與高耐磨性,適用於刀具、模具與高磨耗材料加工
- 低摩擦係數,可降低加工阻力與表面磨耗
- 良好電絕緣性,適合需要導熱但避免導電的電子元件應用
- 低熱膨脹係數,有助於降低半導體元件冷熱循環中的熱應力
- 具備化學穩定性,可應用於嚴苛環境與高可靠度需求場景