PVD PVN500-C

采用 阴极电弧镀膜技术，可配置 4～8 组 6 英寸圆形靶源，靶材利用率高、膜层均匀。
系统采用 夹层水冷与八边形不锈钢腔体，搭配 4 组加热器，可均匀升温至 450°C。
内建 8 轴三层公自转结构，提升产能与镀膜品质。
配备 超高真空涡轮分子泵 与 全自动控制系统，支持远程监控与程序除错。
设有 台车式装载设计，操作便利、生产效率高。

• 适用于多种纳米级硬质与功能性涂层：TiN、CrN、ZrN、TiSiN、TiAlN、AlTiN、AlCrN、AlTiCrN、AlTiSiN、TiX、G1 等。
• 精密切削刀具
• 冷、热作模具
• 汽机车零部件
• 精密机械零件
• 光学与电子元件表面强化

• 铣削、车削、钻孔、攻牙之刀工具
• 成型、冲压之模具