
真空鍍膜系統
PVD PVN500-C


產品說明
採用 陰極電弧鍍膜技術,可配置 4~8 組 6 吋圓形靶源,靶材利用率高、膜層均勻。
系統採 夾層水冷與八邊形不鏽鋼腔體,搭配 4 組加熱器,均勻升溫至 450°C。
內建 8 軸三層公自轉結構,提升產能與鍍膜品質。
具 超高真空渦輪幫浦 與 全自動控制系統,支援遠端監控與除錯。
設有 台車式裝載設計,操作便利、生產效率高。
系統採 夾層水冷與八邊形不鏽鋼腔體,搭配 4 組加熱器,均勻升溫至 450°C。
內建 8 軸三層公自轉結構,提升產能與鍍膜品質。
具 超高真空渦輪幫浦 與 全自動控制系統,支援遠端監控與除錯。
設有 台車式裝載設計,操作便利、生產效率高。
產品特點
- 適用多種奈米級硬質與功能性塗層:TiN、CrN、ZrN、TiSiN、TiAlN、AlTiN、AlCrN、AlTiCrN、AlTiSiN、TiX、G1 等。
- 精密切削刀具
- 冷熱作模具
- 汽機車零組件
- 精密機械零件
- 光學與電子元件表面強化
相關解決方案
- 銑削、車削、鑽孔、攻牙之刀工具
- 成型、沖壓之模具